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600系列光刻機 —— IC前道制造


SSA600/20

SSC600/10

SSB600/10

SSX600系列步進掃描投影光刻機采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應調焦調平技術,以及高速高精的自減振六自由度工件臺掩模臺技術,可滿足IC前道制造90nm、110nm、280nm關鍵層和非關鍵層的光刻工藝需求。該設備可用于8寸線或12寸線的大規模工業生產。
   主要技術參數
 型號  SSA600/20  SSC600/10  SSB600/10
 分辨率  90nm  110nm  280nm
 曝光光源  ArF excimer laser  KrF excimer laser  i-line mercury lamp
 鏡頭倍率  1:4  1:4  1:4
 硅片尺寸  200mm或300mm  200mm或300mm  200mm或300mm